コーセー／東京都北区に新「基盤研究所」建設
2016年03月02日 13:30 ／ 経営
コーセーは3月2日に迎える創業70周年を機に、現在の技術情報センター（東京都北区）の社屋を建て替え、新たに「基盤研究所」を建設する、と発表した。
＜新・基盤研究所 イメージ＞
投資額は40億円、竣工予定が2019年3月。
2016年、同社グループの掲げる「世界で存在感のある企業への進化」を目指すための施策の一環として、価値創出の要である研究開発拠点を再編成する。
現在、同社の研究開発拠点は、東京都北区内の「製品研究所」と「技術情報センター」、同板橋区の「基礎研究所」の3拠点より構成されている。
新設する「基盤研究所」に「基礎研究所」の機能を吸収する形で研究拠点の再編成を進め、北区内の「製品研究所」と、新たに建設する隣接した「基盤研究所」の2拠点に集約する。
地理的に隣接した立地への研究拠点の集約によって所員の物理的・時間的・心理的距離を近づけ、よりスピーディで緊密な連携や、アイディア・技術の融合を図れる体制を整える。
これによって、研究所VISIONとして掲げている「常識や前提にとらわれないイノベーション」を実現していく。
今回の建設予定地である北区・王子は70年前の同社創業の地。
■（新）コーセー基盤研究所 概要
建設予定地：東京都北区栄町46-3（現 技術情報センター）
敷地面積：2167平方m
延床面積：約4300平方m
設計：日建設計
施工：未定
計画概要：地上3階、地下1階、RC造
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